在化學(xué)合成領(lǐng)域，反應(yīng)條件的限制往往成為實(shí)驗(yàn)創(chuàng)新的 “瓶頸"：傳統(tǒng)常壓反應(yīng)難以滿足高活性物質(zhì)合成需求，而專用高壓反應(yīng)設(shè)備又無法兼顧常壓回流操作，需頻繁更換儀器，不僅耗時(shí)耗力，還可能因轉(zhuǎn)移樣品導(dǎo)致反應(yīng)誤差；同時(shí)，常規(guī)反應(yīng)裝置的微波能量分布不均，易出現(xiàn)局部過熱，影響反應(yīng)轉(zhuǎn)化率與產(chǎn)物純度。